技术探讨

内氧化法制备Al2O3弥散强化铜合金及其组织与性能

采用内氧化法用雾化铜铝合金粉制备出了铝含量(质量分数)分别为0.15%、0.25%、0.35%的3种氧 化铝弥散强化铜合金。研究了A1203弥散强化铜合金的组织与性能。结果表明,弥散铜合金的晶粒细小,晶粒 大小在0.2~1脚之间;内氧化工艺生成的细小氧化铝质点在晶粒内部呈弥散分布,其平均直径小于20nm。 0.35%~含量的弥散强化铜合金抗拉强度为600艘a,电导率为83%IACS,满足了CuCrZr电阻焊电极的要求, 司以作为CuCrZr电阻焊电极的替代材料。
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弥散铜内氧化动力学


对Cu-Al合金的内氧化工艺及其动力学进行了系统研究。结果表明: 本实验条件下以1223K, 015h 内氧化 工艺所得材料的性能最佳, 其显微组织特征是Cu基体上均匀弥散分布着纳米级Al2O3粒子。理想条件的内氧化初 期和实际条件下的内氧化动力学曲线服从抛物线规律。温度、时间、Cu-Al合金粉颗粒半径和Al浓度是实际内氧化 控制的4 要素, 它们间的函数关系近似满足下式: t=6179R2CBexp (23251/T)。实际内氧化时间不宜过长, 内氧化温 度应该: 1123K< T ≤1223K。
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Al2O3高纯铜溅射靶材的发展及现状


简要介绍了高纯铜溅射靶材目前的市场情况、现状、应用领域和未来高纯铜溅射靶材发展趋势; 并对高 纯铜溅射靶材的特性要求以及微观组织控制做了简单的阐述。 
 
 
 
 
 
 
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